HFJC600-II型磁控濺射真空鍍膜機
（應用于各種電學膜、金屬膜和SiO2膜等的設備）
真空室：臥式頂蓋升降。內腔Φ600×700mm，,304不銹鋼
真空系統：直聯泵+F250分子泵
極限真空：3.0E-4pa
恢復真空：大氣至4.0E-3pa≤15min
烘烤：鹵鎢燈，最高溫度350℃，可調可控
靶源：4個Φ80靶，DC或RF（13.56MHz）電源，1.5KW可調
充氣系統：2路流量控制
工件機構：公自轉機構，3個Φ70樣品盤；公轉速度1-30rpm，自轉1-120rpm，可控可調
操作系統：可自動和手動操作，工藝參數設置，完善的水電檢測報警功能
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