HF-700型箱式真空鍍膜機

主要指標：

真空室：立式前開門。內(nèi)膜Φ700×800，,304不銹鋼；外壁通冷卻水，內(nèi)襯不銹鋼防污板

真空系統(tǒng)：機械泵+擴散泵（或分子泵）+（可選加羅茨泵）

極限真空：3.0E^-4pa

恢復(fù)真空：大氣至4.0E^-3pa≤15min

工作架：Φ640mm帽形工件盤等，扇形，行星

烘烤：上烘烤用進口管狀加熱器（下烘烤用碘鎢燈加熱）；最高溫度350℃，可調(diào)可控

蒸發(fā)源：電阻蒸發(fā)源或電子束蒸發(fā)源，功率10KW，數(shù)量2只

離子源：Φ12cm考夫曼（可選），進口

光學(xué)膜厚控制：光學(xué)專用電源；光學(xué)膜厚控制儀；光柵單色儀；波長范圍380-1100nm;反射/透射

石英晶控：SQC310，低溫單探頭

電源：3相，380V，50Hz，約30KW